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純水設(shè)備EDI清洗方法和注意事項(xiàng)

2023-04-25 00:33:10

admin

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純水設(shè)備EDI作為一種新型的水處理技術(shù)，其能夠高效、大量地制取超純水，在制藥、電子、化工等有超純水使用需求的行業(yè)都會(huì)用到該設(shè)備。但是，EDI設(shè)備在長(zhǎng)期的運(yùn)行過(guò)程中，會(huì)因?yàn)楦鞣N原因?qū)е缕洚a(chǎn)生污染。對(duì)于其污染，需要及時(shí)進(jìn)行清洗，以恢復(fù)性能。為此，小編帶來(lái)了純水設(shè)備EDI清洗方法和注意事項(xiàng)。

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純水設(shè)備EDI清洗方法
純水設(shè)備EDI的清洗方法有酸溶液清洗、堿溶液清洗以及高溫清洗。關(guān)于這三個(gè)清洗方法的具體闡述如下：
1. 酸溶液清洗。酸洗是EDI模塊用得最多的清洗方法，該方法顧名思義就是利用各類酸性溶液進(jìn)行清洗，常用到的有H₂SO₄、HCl等溶液。在進(jìn)行清洗之前，用戶需要停止EDI模塊的進(jìn)水并將其存水排光，之后再加入酸容易并進(jìn)行浸泡。在清洗結(jié)束后，需要用到EDI產(chǎn)水再次沖洗，目的是將酸洗的殘余去除，以免其影響后續(xù)正常產(chǎn)水。
2. 堿溶液清洗。堿洗與酸洗在具體的清洗方法上區(qū)別不大，主要區(qū)別是兩者針對(duì)的是不同的污染情況以及所用到的不同的化學(xué)溶液。堿洗適用于去除EDI模塊內(nèi)的堿性和溶解物質(zhì)，其會(huì)用到NaOH、KOH等堿溶液。具體的清洗方法與酸洗一致。
3. 高溫清洗。高溫清洗比較適合去除EDI模塊里面的有機(jī)污染物，需要用到高溫、高壓的水蒸氣進(jìn)行清洗。在正式清洗前，用戶需要停止EDI模塊進(jìn)水并將其存水排光，之后輸入清洗液并將EDI模塊封閉進(jìn)行高溫高壓清洗。清洗過(guò)后，需要使用純水清洗殘余物。

純水設(shè)備EDI清洗注意事項(xiàng)
在對(duì)純水設(shè)備EDI進(jìn)行清洗時(shí)，需要注意：選擇合適的清洗劑、選擇合適的清洗時(shí)間與溫度、防止交叉污染等。關(guān)于這些清洗注意事項(xiàng)的具體說(shuō)明如下：
1. 選擇合適的清洗劑。對(duì)于EDI模塊的不同污染類型、污染程度，用戶需要采用不同種類、不同劑量的清洗劑。不恰當(dāng)?shù)那逑磩┹p則達(dá)不到良好的清洗效果，重則導(dǎo)致污染更加嚴(yán)重。
2. 選擇合適的清洗時(shí)間和溫度。用戶清洗EDI模塊除了需要注意選擇合適清洗劑，其對(duì)清洗時(shí)間和溫度也需要注意。具體的清洗時(shí)間與溫度，還是的清洗劑的選用類似，都要結(jié)合EDI模塊實(shí)際的污染狀況進(jìn)行決定。
3. 防止交叉污染。避免清洗液與純水交叉污染，影響正常清洗程序。

以上就是關(guān)于純水設(shè)備EDI的一些清洗方法和注意事項(xiàng)。

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